生产原理

　　　高温裂解法生产气相二氧化硅是将四氯化硅高温气化，在氢氧焰中经高温水解而得气相二氧化硅，其反映式如下：
                          1000℃
            SiCl4 +2H2 +O2 ─→ SiO2 + 4HCl

    生产方法

    气相二氧化硅的生产流程图如下：
空气→纳氏泵→汽水分离器→除雾器→冷冻脱水塔→硅胶干燥器
                                                 ↓
H2→纳氏泵→汽水分离器→除雾器→冷冻脱水器 氢气除尘过滤器
                                    ↓           │
                              硅胶干燥器         │
                                 ↓　　　　　　　│
                       氢气除尘过滤器→氢气阻火器│
                                 ↓            ↓↓
         SiCl4→精流塔→冷凝器→气化器────→合成水解炉
                                                 ↓
                                  空气         分离器             
                                   ↓            ↓ 
                   成品←脱酸炉←脱酸炉←料斗←凝集器

    流程简介：空气经纳氏泵加压后，]经气水分离器除雾冷冻脱水，硅胶干燥过滤除尘后分两路，一路到合成水解炉，一路到气化器作四氯化碳载体。

　　　氢气经纳氏泵加压后，经气水分离器冷冻脱水，硅胶干燥、过滤除尘后送水解炉。

　　　氢气和空气在合成水解炉上部喷嘴处燃烧，同时通入四氯化硅,燃烧形成1000℃左右的高温，同时生成水蒸气，水蒸气将四氯化硅水解成二氧化硅和HCl气体。高温水解所得的二氧化硅颗粒极细，与反应后的气体形成气溶胶，不易捕集，故先把它送至聚集器中聚集成较大颗粒，然后再经旋风分离器收集，送脱酸炉，用含氨的空气吹洗，使残留的HCl量降至0.025%以下，得成品二氧化硅。