沉淀二氧化硅（白炭黑）表面存在着—OH。许多研究表明，这些羟基以二种类型存在。

　　1、相邻羟基存在于沉淀二氧化硅（白炭黑）中，这些羟基邻近，故以氢键形式彼此结合。相邻羟基对极性武陟的吸附是十分重要的，它是比隔离羟基更有效的吸附点。

　　2、隔离羟基主要存在于脱水的表面，这种羟基本身没有发生氢键，故氢院子的正电性较强，很容易和负电子的原子如氧、氮等发生吸附，它不易升温脱除，沉淀二氧化硅（白炭黑）的隔离羟基比气相二氧化硅多。